日本的Ebara Co.，Ltd.開始銷售新的廢氣處理設備，以滿足太陽能電池制造過程中對大流量氣體的需求。該裝置可以使薄膜太陽能電池和半導體制造過程中排放的有氣體無害。該公司根據用途準備了G6、G6-PV和G6-E三種型號。這三種型號都是帶燃燒裝置和水洗除塵裝置的復合處理裝置。
G6是一種廢氣處理設備，支持大流量，針對薄膜太陽能電池、液晶面板單元和半導體制造工藝中各種設備使用的氣體。每分鐘允許的最大氣體流入量為1200升，比以前產品的平均每分鐘350升高出約3倍。因此，可以減少所需的廢氣處理裝置的數量，從而降低設備成本。
用于處理薄膜太陽能電池制造過程的G6-PV裝置中使用的大量清潔氣體（NF3）平均每分鐘可處理廢氣中所含的高達150升的三氟化氮。G6-E型適用于半導體制造過程中產生的含氫、含氯廢氣的處理。每分鐘最多允許400升氣體。
該公司擴大了產品陣容，在廢氣處理裝置中增加了三種新型號，以滿足更多客戶的需求。由于可再生能源日益受到重視，太陽能電池市場的需求進一步擴大，制造過程中使用的廢氣處理裝置預計將增加。埃巴拉有限公司（Ebara Co.，Ltd.）將通過推廣其減少環境負荷和提高生產效率的特性來銷售新的加工設備。
（編者/李燕郊）日本埃巴拉有限公司（Ebara Co.，Ltd.）開始銷售新的廢氣處理設備，以滿足太陽能電池制造過程中對大流量氣體的需求。該裝置可以使薄膜太陽能電池和半導體制造過程中排放的有氣體無害。該公司根據用途準備了G6、G6-PV和G6-E三種型號。這三種型號都是帶燃燒裝置和水洗除塵裝置的復合處理裝置。
G6是一種廢氣處理設備，支持大流量，針對薄膜太陽能電池、液晶面板單元和半導體制造工藝中各種設備使用的氣體。每分鐘允許的最大氣體流入量為1200升，比以前產品的平均每分鐘350升高出約3倍。因此，可以減少所需的廢氣處理裝置的數量，從而降低設備成本。
用于處理薄膜太陽能電池制造過程的G6-PV裝置中使用的大量清潔氣體（NF3）平均每分鐘可處理廢氣中所含的高達150升的三氟化氮。G6-E型適用于半導體制造過程中產生的含氫、含氯廢氣的處理。每分鐘最多允許400升氣體。
該公司擴大了產品陣容，在廢氣處理裝置中增加了三種新型號，以滿足更多客戶的需求。由于可再生能源日益受到重視，太陽能電池市場的需求進一步擴大，制造過程中使用的廢氣處理裝置預計將增加。埃巴拉有限公司（Ebara Co.，Ltd.）將通過推廣其減少環境負荷和提高生產效率的特性來銷售新的加工設備。
（編輯/李燕郊）
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